Sol-jel yöntemiyle hazırlanan TiO2 filmlerin elektrokromik özellikleri
Tezin Türü: Yüksek Lisans
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Hatay Mustafa Kemal Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, FİZİK (YL) (OSMANİYE KORKUT ATA ÜNİV. ORTAK), Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2015
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: HASAN SARIGÜL
Danışman: İDRİS SORAR
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Bu çalışmada sol-jel kaplama yöntemi kullanılarak Corning cam ve ITO altlıklar üstüne titanyum dioksit (TiO2) filmleri kaplanmıştır. Kaplama işlemi için oluşturulan çözelti uygun miktarda titanyum (IV) n-bütoksit, asetik asit ve etanol içermektedir. Filmlerin taşıyıcılar üstüne kaplanmasında 2000 devir/dakika hızında döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Filmler çeşitli sıcaklıklarda ısıl işleme tabi tutulmuş ve analiz edilmişlerdir. Filmlerin yapısal analizi X-ışınları kırınımı kullanılarak yapılmıştır. 1, 3 ve 5 katlı olarak Corning cam üzerine hazırlanan ve 200 oC, 300 oC ve 500 oC' de ısıl işleme tabi tutulan TiO2 filmlerin amorf yapıda olduğu belirlenmiştir. Amorf TiO2 filmlerin yasak enerji aralığının 3,78 eV ile 4,06 eV arasında değiştiği hesaplanmıştır. Diğer taraftan 7-katlı olarak hazırlanan ve 500 oC' de ısıl işleme tabi tutulan filmin ise anataz kristal yapısında olduğu bulunmuştur. Bu filmlerin yasak enerji aralığı 3,82 eV bulunmuştur. Optik ölçümlerde filmlerin yüksek geçirgenliğe sahip olduğu belirlenmiştir. Ölçümlerde farklı konsantrasyonlara sahip KOH elektroliti, karşıt elektrot olarak platin tel, referans elektrot olarak Ag/AgCl elektrot ve çalışma elektrodu olarak kaplanan TiO2 filmler kullanılmıştır. Filmler katodik elektrokromik renklenme göstermiştir.